產品分類
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- 提拉涂膜機
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- CVD氣相沉積系統
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- 1200管式爐
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- 高溫高壓爐
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- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
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- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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1500智能型管式爐（... 成越科儀生產的智能型管式爐采用目前***的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型管式爐的液...
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1700℃智能型真空管... 成越科儀生產的智能型真空管式爐采用目前行的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型真空管式爐...
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1700單溫區φ50管... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
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1700單溫區φ60真... 1700℃單溫區φ60真空管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛...
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1700單溫區φ80管... 1700單溫區φ80管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各...
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1500單溫區φ50真... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
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1500℃單溫區φ60... 成越1500℃單溫區φ60管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛...
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1500℃單溫區φ80... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
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小型旋轉管式爐 單溫區旋轉管式爐，可實現在氣氛保護的環境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動，無需額外固定，爐管拆卸...
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雙溫區滑動旋轉管式爐 雙溫區滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現快速升降溫，雙溫區滑動...
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200mm大管徑回轉窯... 200mm大管徑回轉窯爐配有投料機構和旋轉機構，能夠保證反應連續均勻的發生，200mm大管徑回轉窯爐廣泛應用于鋰電池材料...
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自動進料旋轉管式爐 該款管式爐CY-O1200-R100IT-AF為帶有自動進料和收集設備的可旋轉管式爐，采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤6...
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1200℃三溫區旋轉管... 1200℃三溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作變徑石英管，專為粉末處理設計。旋轉裝置采用摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可...
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1600雙溫區真空旋轉... 鄭州成越科儀真空旋轉管式爐采用7英寸液晶屏做控制系統，具有簡單易學，操作方便，智能化程度高。鄭州成越科儀真空旋轉管式爐主...
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1200℃單溫區旋轉管... 1200℃開啟式單溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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1200℃雙溫區旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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1200℃三溫區旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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PECVD化學氣相沉積... PECVD化學氣相沉積系統采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低...
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PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積（PEALD）系統是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優點，以實現更高的...
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等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
