CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積，實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置.

磁控濺射鍍膜儀技術參數：

項目		明細
產品型號		CY-MSZ325-III-DCDCDC-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
系統真空		≦5×10-4Pa
樣品臺	外形尺寸	φ150mm
	加熱溫度	≦600℃
	控溫精度	±1℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環水冷
	水流大小	不小于10L/Min
	靶槍數量	3
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ300mm，高度500mm
	腔體材質	SUU304不銹鋼
	觀察窗口	直徑φ100mm
	開啟方式	頂開式
氣體控制		1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統		配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量		可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源		配直流電源,功率500W*3
控制系統		CYKY自研專業級控制系統
設備尺寸		540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H
設備重量		145kg