磁控濺射鍍膜儀的原理與技術指標

日期：2025-12-08 19:01

瀏覽次數：1011

摘要：

磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器。濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。

磁控濺射鍍膜儀技術指標：

1、主真空室的本底真空優于2×10－8Torr；

2、四英寸的基片范圍內薄膜厚度均勻性優于±2％；

3、可以濺射磁性和非磁性金屬、進行直流和射頻濺射；

4、基片可以加熱（800℃）、冷卻（水冷）；

5、全自動控制；

6、18英寸主濺射室；

7、高真空泵抽系統；

8、超高真空磁控濺射靶；直流/射頻電源；

9、4英寸樣品臺；

10、PhaseII-J控制系統。

尊敬的客戶：

　　本公司還有快速退火爐、等離子清洗機、旋轉勻膠機等產品，您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息，至善至美的服務是我們的追求，歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品，我們將竭誠為您服務！

豫公網安備 41019702002438號